首页 > SCI期刊> 等离子化学和等离子处理

Plasma Chemistry And Plasma Processing

等离子化学和等离子处理 SCIESCI

Plasma Chemistry And Plasma Processing

较慢,6-12周审稿时间

3区中科院分区

Q2JCR分区

3.337影响因子

0272-4324

1572-8986

PLASMA CHEM PLASMA P

UNITED STATES

工程技术 - 工程:化工

1981

57

Quarterly

English

119

投稿咨询 加急服务

期刊简介

等离子化学和等离子处理(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本由SPRINGER出版的一本工程技术-工程:化工学术刊物,主要报道工程技术-工程:化工相关领域研究成果与实践。本刊已入选、科学引文索引(SCI)来源期刊,该刊创刊于1981年,出版周期Quarterly。在2021年12月最新升级版中大类学科分区:工程技术 ,2021-2022年最新版WOS分区等级:Q2,2021年的影响因子为3.337,CiteScore指数5.40,SJR指数0.549。本刊非开放获取期刊。

发表关于等离子体化学和等离子体处理的基础和应用研究的原创论文,该期刊的范围包括处理从非热等离子体到热等离子体的等离子体,以及基础等离子体研究以及特定等离子体应用的研究。此类应用包括但不限于等离子体催化、环境处理(包括处理液体和气体)、等离子体的生物应用(包括等离子体医学和农业)、表面改性和沉积、粉末和纳米结构合成、能源应用(包括等离子体燃烧和重整)、资源回收,等离子体和电化学的耦合,以及等离子体蚀刻。等离子体中的化学动力学研究,以及等离子体与表面的相互作用也被征集。提交的材料必须充分考虑等离子体的作用,例如相关的等离子体化学、等离子体物理或等离子体-表面相互作用;仅考虑使用等离子体处理的材料或物质的特性的手稿不在该期刊的范围内。

中科院分区信息

等离子化学和等离子处理2021年12月最新升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 3区 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 3区 3区 3区
等离子化学和等离子处理2021年12月最新基础版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 3区 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区 3区 2区
等离子化学和等离子处理2020年12月旧的升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 3区 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 3区 3区 3区
名词解释:

中科院JCR期刊分区(又称分区表、分区数据)是中国科学院文献情报中心世界科学前沿分析中心的科学研究成果。在中科院期刊分区表中,主要参考3年平均IF作为学术影响力,最终每个分区的期刊累积学术影响力是相同的,各区的期刊数量由高到底呈金字塔式分布。

期刊数据统计

1、Cite Score
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Materials Science 小类:Surfaces, Coatings and Films Q1 30 / 129
77%
大类:Materials Science 小类:General Chemical Engineering Q1 70 / 280
75%
大类:Materials Science 小类:Condensed Matter Physics Q2 106 / 415
74%
大类:Materials Science 小类:General Chemistry Q2 110 / 409
73%
名词解释:

CiteScore:该指标由Elsevier于2016年提出,指期刊发表的单篇文章平均被引用次数。CiteScorer的计算方式是:例如,某期刊2022年CiteScore的计算方法是该期刊在2019年、2020年和2021年发表的文章在2022年获得的被引次数,除以该期刊2019年、2020年和2021发表并收录于Scopus中的文章数量总和。

2、综合数据
3、本刊综合数据对比及走势

文章引用数据

文章名称 引用次数
  • Effect of Cold Atmospheric Pressure Plas...

    23
  • Cold Atmospheric Pressure Plasma Can Ind...

    14
  • Inactivation of Shewanella putrefaciens ...

    13
  • Seed Priming with Non-thermal Plasma Mod...

    13
  • Stimulation of the Germination and Early...

    12
  • Evaluation of Oxidative Species in Gaseo...

    12
  • Non-thermal Plasma Induced Expression of...

    11
  • Effect of the Magnetic Field on the Magn...

    9
  • On the Possibilities of Straightforward ...

    8
  • Plasma Activated Organic Fertilizer

    8

期刊被引用数据

期刊名称 引用次数
  • PLASMA CHEM PLASMA P

    289
  • J PHYS D APPL PHYS

    241
  • IEEE T PLASMA SCI

    106
  • PLASMA SCI TECHNOL

    95
  • CHEM ENG J

    92
  • PLASMA SOURCES SCI T

    82
  • PLASMA PROCESS POLYM

    79
  • PHYS PLASMAS

    48
  • SURF COAT TECH

    46
  • J APPL PHYS

    39

期刊引用数据

期刊名称 引用次数
  • J PHYS D APPL PHYS

    308
  • PLASMA CHEM PLASMA P

    289
  • PLASMA SOURCES SCI T

    186
  • IEEE T PLASMA SCI

    101
  • PLASMA PROCESS POLYM

    97
  • J APPL PHYS

    74
  • CHEM ENG J

    69
  • APPL PHYS LETT

    64
  • APPL CATAL B-ENVIRON

    58
  • J CHEM PHYS

    53

国家/地区发文数据

国家/地区名 数量
  • CHINA MAINLAND

    70
  • Russia

    37
  • USA

    29
  • France

    26
  • GERMANY (FED REP GER)

    21
  • Czech Republic

    15
  • Iran

    14
  • India

    12
  • Japan

    12
  • Poland

    11

相关期刊

SCI期刊导航

免责声明

本站合法持有《出版物经营许可证》,主要从事期刊零售和咨询服务,不是任何杂志官网,不涉及任何出版事务。本站仅提供有限咨询服务,需要用户自己向出版商投稿且没有绿色通道,是否录用一切以出版商通知为准。本站提供的期刊信息均来源于国家新闻出版总署及网络,仅供参考,提及的第三方名称或商标,其知识产权均属于相应的出版商或期刊,本站与上述机构无从属关系,所有引用均出于解释服务内容的考量,符合商标法规范。本页信息均由法务团队进行把关。若用户需要出版服务,请联系出版商。

飞雁卡 新好卡
春晓卡 宽带卡

本站合法持有《出版物经营许可证》,主要从事期刊零售和咨询服务,不是任何杂志官网,不涉及任何出版事务。本站仅提供有限咨询服务,需要用户自己向出版商投稿且没有绿色通道,是否录用一切以出版商通知为准。本站提供的期刊信息均来源于国家新闻出版总署及网络,仅供参考,提及的第三方名称或商标,其知识产权均属于相应的出版商或期刊,本站与上述机构无从属关系,所有引用均出于解释服务内容的考量,符合商标法规范。本页信息均由法务团队进行把关。若用户需要出版服务,请联系出版商。
工信部备案:鲁ICP备17016571号

客服在线,微信扫码咨询